Center for Hybrid Nanostructures
Universität Hamburg
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SEM und Lithografie

Es stehen uns drei verschiedene SEM-Systeme (Scanning Electron Microscope) zur Verfügung, ein Sigma-SEM (Abb x), ein EVO-SEM (Abb. Y) und ein Philipps SEM. Das neuste System ist dabei das Sigma-SEM mit einer lateralen Auflösung von ca. 1,5nm. Neben der hohen lateralen Auflösung besitzt es noch einen EDX-Detektor um elementspezifische Analysen durchzuführen.

Das EVO-SEM gehört der Gruppe K und besitzt eine RAITH-Ansteuerung um damit Elektronenstrahllithografie zu betreiben. Bis jetzt konnten wir mit diesem System Strukturbreiten von >60nm verlässlich herstellen. Als drittes steht uns ein Philipps SEM mit EDX-Detektor zur Verfügung mit dessen Hilfe ebenfalls elementspezifische Analysen durchgeführt werden können.